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晶體出現(xiàn)率分析儀

更新時間：2024-07-12

訪問量：1786

廠商性質：生產(chǎn)廠家

設備型號：ZMP960

簡要描述：
ZMP9 60 晶體出現(xiàn)率分析儀是工作原理是通過專用高分辨率 CCD 線性傳感器和顯微光學掃描平臺，將顆粒圖像信息采集下來并傳輸?shù)接嬎銠C中，用專門的顆粒圖像分析軟件對顆粒圖像進行分析。結合智能的背景分離及顆粒邊界搜索算法，將目標顆粒與背景分離，分析出各種測量參數(shù)，并通過顯示器和打印機輸出。
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ZMP9 60 晶體出現(xiàn)率分析儀是工作原理是通過專用高分辨率 CCD 線性傳感器和顯微光學掃描平臺，將顆粒圖像信息采集下來并傳輸?shù)接嬎銠C中，用專門的顆粒圖像分析軟件對顆粒圖像進行分析。結合智能的背景分離及顆粒邊界搜索算法，將目標顆粒與背景分離，分析出各種測量參數(shù)，并通過顯示器和打印機輸出。

    晶體出現(xiàn)率分析儀具有超大測量范圍及高分辨率，同時具有直觀、可視、準確、操作簡單、測量參數(shù)全面等特點。能夠同時測量顆粒粒度、形狀及表面顏色 的新型顆粒分析儀器。

產(chǎn)品介紹：ZMP960晶體出現(xiàn)率分析儀，可以直接對透明貼劑中析出的晶體進行掃描，按照規(guī)定掃描范圍進行掃描一定的面積，將其中的晶體識別出來并做數(shù)量統(tǒng)計。軟件可以內(nèi)置公式得出晶體出現(xiàn)率。



 

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